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SelektLas

Selektiver und schädigungsarmer Laserabtrag von Schichtsystemen auf optischen Bauelementen

Bei Punkt- oder flächigen Fehlern in der Beschichtung hochwertiger Optiken müssen diese abgetragen und die Beschichtung repariert oder ersetzt werden. Bisher angewandte nasschemische Abtragsverfahren basieren jedoch oft auf Einsatz giftiger Chemikalien und erfordern oft einen vollständigen Schichtabtrag, während mechanische Verfahren meist nur auf planen Oberflächen anwendbar sind. Projektziel ist die Prozessentwicklung für einen schädigungsarmen, ortsoptimierten Abtrag durch Ultrakurzpulslaser. Hierfür sollen simulative Ansätze, experimentelle Untersuchungen und In situ-Messtechnik zur Parameter-Optimierung genutzt werden.

Beteiligte Forschungseinrichtungen

  • Ernst-Abbe-Hochschule, Jena
  • Laserinstitut Hochschule Mittweida

Eingebundene Unternehmen
(Projektbegleitender Ausschuss "PA")

  • JENOPTIK Optical Systems GmbH
  • 12-15 Unternhmen (Mind. 50 % KMU)

 

Förderung

  • Wird im Rahmen des Förderprogramms "Industrielle Gemeinschaftsforschung" (IGF) beantragt

Vorhabensbeschreibung

Stand der Fördermittelainwerbung

  • Der Antrag wird voraussichtlich im Frühjahr 2024 beim Projektträger des Deutschen Zentrums für Luft- und Raumfahrt (DLR-PT) eingereicht.