header-image
16.05.2017

Optimierte Schichtmaterialien für IR-, VIS- u. UV-Anwendungen

Die Leistungsfähigkeit optischer Schichtmaterialien hängt von Parametern wie Absorption und mechanischer Spannung ab. Sie ist merklich anfällig gegenüber Änderungen in der atomaren Struktur oder der elementaren Zusammensetzung durch Eindringen extrinsischer Stoffe (z. B. Wasser) in das Schichtgefüge. In dem Projektvorhaben "Optimierte Schichtmaterialien für IR-, VIS- und UV-Anwendungen" (OSIRIS) soll der Einfluss spezifischer extrinsischer Effekte studiert und Limitationen beseitigt werden.

Projektziel ist es, optische Schichten hinsichtlich des Einflusses von Wassereinbau auf Absorptionsvermögen und Schichtspannung zu optimieren. Dazu wollen Wissenschaftler des Fraunhofer IOF Jena und der TU Chemnitz experimentelle Analyse und parallele Computersimulationen kombinieren.

Der Projektantrag soll im Sommer/Herbst 2017 zur Begutachtung eingereicht werden und im Frühjahr 2018 starten. Eine Fördersumme in Höhe von ca. 500 T Euro wird aus dem Topf des BMWi-Programms der Industriellen Gemeinschaftsforschung (IGF) beantragt werden.

Ziel der im Rahmen der Industriellen Gemeinschaftsforschung geförderten Forschungsprojekte ist die Unterstützung deutscher mittelständischer Unternehmen bei der Verfolgung potentialreicher Innovationsideen. Daher sind für den Erfolg des Projektantrags die Darstellung eines nachdrücklichen Interesses und der Unterstützung durch Industrieunternehmen, insbesondere durch KMU, von zentraler Wichtigkeit.

Möchten Sie zur Ermöglichung des Projektvorhabens beitragen und es durch Teilnahme im Projektbegleitenden Industrieausschuss oder durch einen Förderbeitrag zur Abdeckung der Administrationskosten unterstützen, freuen wir uns auf Ihre Kontaktaufnahme und lassen Ihnen gerne weitere Informationen zukommen.

<media 989 - - "Projektsteckbrief OSIRIS">Projektsteckbrief</media>