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CleAnOn

System zur schnellen und robusten thermischen Reinigung und integrierten finalen Online-Sauberkeitsvalidierung

Die seit kurzer Zeit eingesetzte ultrakurzwellige UV-Strahlung zur Herstellung leistungsfähiger Halbleiter-Chips erfordert eine aufwändige nasschemische Reinigung und sehr kosten- und materialintensive Bewertung der Anlage. Projektziel ist die Entwicklung eines preisgünstigen und robusten Trocknungssystems mit verbauter Online-Messtechnik zur dynamischen Bestimmung des finalen Reinheitszustandes metallischer Bauteile. Dies soll durch einen Trockenschrank mit integrierter Messzelle auf Basis einer thermischen Quarzkristall-Mikrowaage kombiniert mit IR-spektroskopischer Messtechnik realisiert werden.

Beteiligte Forschungseinrichtungen

  • Fraunhofer-Institut für Produktionstechnik und Automatisierung IPA, Stuttgart
  • Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF, Freiburg

Eingebundene Unternehmen
(Projektbegleitender Ausschuss, "PA")

  • 12-15 Unternehmen (mind. 50 % KMU)

Förderung

  • Wird im Rahmen des BMWK-Programms "Industrielle Gemeinschaftsforschung" (IGF) beantragt

Vorhabensbeschreibung

Stand der Fördermittelbeantragung

  • Der Antrag wird voraussichtlich im Sommer 2023 bei der Arbeitsgemeinschaft industrieller Forschungsvereinigungen (AiF) eingereicht.