Die seit kurzer Zeit eingesetzte ultrakurzwellige UV-Strahlung zur Herstellung leistungsfähiger Halbleiter-Chips erfordert eine aufwändige nasschemische Reinigung und sehr kosten- und materialintensive Bewertung der Anlage. Projektziel ist die Entwicklung eines preisgünstigen und robusten Trocknungssystems mit verbauter Online-Messtechnik zur dynamischen Bestimmung des finalen Reinheitszustandes metallischer Bauteile. Dies soll durch einen Trockenschrank mit integrierter Messzelle auf Basis einer thermischen Quarzkristall-Mikrowaage kombiniert mit IR-spektroskopischer Messtechnik realisiert werden.
Beteiligte Forschungseinrichtungen
Eingebundene Unternehmen
(Projektbegleitender Ausschuss, "PA")
Förderung
Vorhabensbeschreibung
Stand der Fördermittelbeantragung