PROJEKTVORHABEN

OSIRIS

Optimierte Schichtmaterialien für IR-, VIS- und UV-Anwendungen

Die Leistungsfähigkeit optischer Schichtmaterialien hängt von Parametern wie Absorption und mechanischer Spannung ab. Sie ist merklich anfällig gegenüber Änderungen in der atomaren Struktur oder der elementaren Zusammensetzung durch Eindringen extrinsischer Stoffe (z. B. Wasser) in das Schichtgefüge. Das Projektziel besteht in der Optimierung optischer Schichten hinsichtlich des Einflusses von Wassereinbau auf Absorptionsvermögen und Schichtspannung. Dazu sollen experimentelle Analyse und parallele Computersimulationen kombiniert werden.

Beteiligte Forschungsstellen:

  • Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Jena
  • Technische Universität Chemnitz, Institut für Physik

Projektsteckbrief

Kontakt

F.O.M.

Werderscher Markt 15
D-10117 Berlin

Fon: +49 (0)30 414021-39
Fax: +49 (0)30 414021-33
E-Mail: info@forschung-fom.de

News

11.08.2017

Forschung zu strukturierten CVD-Diamant-Mikroschleifstiften startet im September

Fördermittel für IGF-Projekt DIAS bewilligt

11.08.2017

IGF aus der Sicht der Industrie - ein Interview

Förderung und effizienter Transfer von grundlegenden technologischen Erkenntnissen für die Industrie

10.07.2017

Forschung zur Hautkrebs-Früherkennung bewilligt

IGF-Projekt HSI-plus startet am 1. August 2017

24.02.2017
SPECTARIS/F.O.M. Innovations-seminar zum Europäischen Einheitspatent 2017
Das Seminar muss aufgrund von erneuten Unsicherheiten hinsichtlich des Zeitplans zur Einführung des Europäischen Einheitspatents leider ausfallen.

mehr lesen...

22.09.2016
Neue Förderprogramme auf der F.O.M.-Webseite
Unter dem Menüpunkt „Förderung“ stellen wir Ihnen ab sofort neue Fördermaßnahmen des Bundes vor, die die innovationsorientierte Forschung, insbesondere von KMU, unterstützen.

mehr lesen...

25.07.2016
Neues Tool zur Durchsetzung von Schutzrechten außerhalb der EU

mehr lesen...