PROJEKTVORHABEN

OSIRIS

Optimierte Schichtmaterialien für IR-, VIS- und UV-Anwendungen

Die Leistungsfähigkeit optischer Schichtmaterialien hängt von Parametern wie Absorption und mechanischer Spannung ab. Sie ist merklich anfällig gegenüber Änderungen in der atomaren Struktur oder der elementaren Zusammensetzung durch Eindringen extrinsischer Stoffe (z. B. Wasser) in das Schichtgefüge. Das Projektziel besteht in der Optimierung optischer Schichten hinsichtlich des Einflusses von Wassereinbau auf Absorptionsvermögen und Schichtspannung. Dazu sollen experimentelle Analyse und parallele Computersimulationen kombiniert werden.

Beteiligte Forschungseinrichtungen

  • Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Jena
  • Technische Universität Chemnitz, Institut für Physik

Projektsteckbrief

Kontakt

F.O.M.

Werderscher Markt 15
D-10117 Berlin

Fon: +49 (0)30 414021-39
E-Mail: info@forschung-fom.de

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