UVLAS2

3D-Messungen von Oberflächen, die im sichtbaren Licht stark reflektierend oder transparent sind, können mit herkömmlichen Messverfahren nicht die erforderliche Genauigkeit erreichen, insbesondere dann nicht, wenn sie gleichzeitig mit streuenden Komponenten, z. B. Optikfassungen, vermessen werden sollen. Ziel von UVLAS2 ist es, ein musterprojektionsbasiertes 3D-Messsystem im UV-Bereich für Oberflächen mit verschiedenen Materialkomponenten zu entwickeln. Dazu soll ein UV-Projektor für inkohärente Speckle-Muster entworfen, zwei UV-Kameras kalibriert und Algorithmen zur 3D-Punktrekonstruktion angepasst werden.